Recubrimiento giratorio de alta precisión utilizado en procesos de recubrimiento de superficies líquidas, de películas superficiales para obleas de silicio, vidrio, cerámica y placas.
Se utiliza principalmente para pruebas de formación de películas de líquidos y coloides, así como para procesos de recubrimiento de superficies. Controlado por una computadora (microordenador de un solo chip), permite preajustar y memorizar la velocidad de rotación, y controlar la aceleración uniforme del plato giratorio.